危害超声波清洗机清洗实际效果的两个关键要素
发布日期:2021-06-08 00:00 来源:http://www.china-csb.com 点击:
超声波清洗机关键原理是超声波清洗机造成的超声波空化功效,超声波空化高低与声学材料主要参数、清洗液物理学特性及自然环境标准相关,要得到优良清洗实际效果务必挑选适度的声学材料主要参数和清洗液。
1.超声波声强或声强的挑选
在清洗液中仅有交替变化声强幅度值超出液态的静工作压力时才会发生负压力,在超声清洗槽中的声强要高过空化阀值才可以造成超声波空化。针对一般液态,空化阀值约为每立方厘米1/3瓦(声强的千方正比例于声强)。声强提升时,空化泡的较大 半经与起止半经比率扩大,空化抗压强度扩大,即气相超声波清洗机声强愈高,空化愈明显,有益于清洗功效。但并不是雾化超声波清洗线声压级越大越好,声强过高。会造成很多没用汽泡,提升透射衰减系数,产生隔声屏障,与此同时声强扩大也会提升离散系统衰减系数,那样都是会消弱避开声源处地区清洗实际效果。针对一些难清洗整洁的污物,比如金属材料表面金属氧化物,化学纤维喷丝板孔内污物的清洗,则必须选用较高声强。这时被清洗面应接近声源处,这时候大多数不选用槽体式清洗器。而用杆状聚焦点式超声波换能器插入清洗液挨近清洗件的表面开展清洗。
2.頻率挑选
超声空化阀的值与超声频率密切相关。頻率越高,空化阈越高,也就是说,頻率越高,在液态时要造成空化所必须的声强或声压级也越大;頻率低,空化非常容易造成,与此同时在低頻状况下,液态遭受缩小和稀少功效有更长期间距。将泡沫塑料放入容器中,要使泡沫塑料的生长发育到一定程度,提高空化强度,有利于泡沫塑料的清洗作用。现阶段超声波清洗机的输出功率依据清洗目标,大概分成三个频率段;低頻超声清洗(20一50KHz),高频率超声清洗(50—200KHz)和MHz超声清洗(700KHz一1MHz之上)。低頻超声清洗适用大型部件表面或是污物和清洗件表面融合抗压强度高场所。頻率中低端,空化抗压强度高,易浸蚀清洗件表面,不适合清洗表面光滑度高的构件,并且空化噪音大。40KHz上下的频率,在相同的声音强度下,空化气泡总数多于20KHz,穿透性强,应清洗表面复杂或有埋孔的产品工件,空化噪音小。但空化抗压强度较低,合适清洗污物与被清洗件表面结合性较差场所,高频率超声清洗适用电子计算机、微电子元器件的细致清洗,如硬盘、控制器,读写能力头,液晶面板及平面图显示屏,微部件和打磨抛光金属产品等的清洗。这种清洗目标规定在清洗全过程中不可以遭受空化浸蚀。要能洗去μm级的污物。MHz超声清洗适用集成电路芯片集成ic、单晶硅片及簿膜等的清洗。能除去μm、亚微米级的污物而对清洗件沒有一切损害,由于这时不造成空化功效,超声波清洗原理主要是声强梯度方向、颗粒速率和弦流的功效,特性是清洗专一性强,被清洗件一般放置与声束平行面的方位。
1.超声波声强或声强的挑选
在清洗液中仅有交替变化声强幅度值超出液态的静工作压力时才会发生负压力,在超声清洗槽中的声强要高过空化阀值才可以造成超声波空化。针对一般液态,空化阀值约为每立方厘米1/3瓦(声强的千方正比例于声强)。声强提升时,空化泡的较大 半经与起止半经比率扩大,空化抗压强度扩大,即气相超声波清洗机声强愈高,空化愈明显,有益于清洗功效。但并不是雾化超声波清洗线声压级越大越好,声强过高。会造成很多没用汽泡,提升透射衰减系数,产生隔声屏障,与此同时声强扩大也会提升离散系统衰减系数,那样都是会消弱避开声源处地区清洗实际效果。针对一些难清洗整洁的污物,比如金属材料表面金属氧化物,化学纤维喷丝板孔内污物的清洗,则必须选用较高声强。这时被清洗面应接近声源处,这时候大多数不选用槽体式清洗器。而用杆状聚焦点式超声波换能器插入清洗液挨近清洗件的表面开展清洗。
2.頻率挑选
超声空化阀的值与超声频率密切相关。頻率越高,空化阈越高,也就是说,頻率越高,在液态时要造成空化所必须的声强或声压级也越大;頻率低,空化非常容易造成,与此同时在低頻状况下,液态遭受缩小和稀少功效有更长期间距。将泡沫塑料放入容器中,要使泡沫塑料的生长发育到一定程度,提高空化强度,有利于泡沫塑料的清洗作用。现阶段超声波清洗机的输出功率依据清洗目标,大概分成三个频率段;低頻超声清洗(20一50KHz),高频率超声清洗(50—200KHz)和MHz超声清洗(700KHz一1MHz之上)。低頻超声清洗适用大型部件表面或是污物和清洗件表面融合抗压强度高场所。頻率中低端,空化抗压强度高,易浸蚀清洗件表面,不适合清洗表面光滑度高的构件,并且空化噪音大。40KHz上下的频率,在相同的声音强度下,空化气泡总数多于20KHz,穿透性强,应清洗表面复杂或有埋孔的产品工件,空化噪音小。但空化抗压强度较低,合适清洗污物与被清洗件表面结合性较差场所,高频率超声清洗适用电子计算机、微电子元器件的细致清洗,如硬盘、控制器,读写能力头,液晶面板及平面图显示屏,微部件和打磨抛光金属产品等的清洗。这种清洗目标规定在清洗全过程中不可以遭受空化浸蚀。要能洗去μm级的污物。MHz超声清洗适用集成电路芯片集成ic、单晶硅片及簿膜等的清洗。能除去μm、亚微米级的污物而对清洗件沒有一切损害,由于这时不造成空化功效,超声波清洗原理主要是声强梯度方向、颗粒速率和弦流的功效,特性是清洗专一性强,被清洗件一般放置与声束平行面的方位。